그동안 차세대 리소그래피 학술대회의 일부로 개설되었던 단기강좌 과정이 작년에 이어 올해에도 별도의 행사로 개최됩니다. 본 단기강좌는 6/28(화) ~ 7/1(금) 나흘간 부산 센텀프리미어 호텔에서 개최되며, 공간적 제약없이 자유로운 참석을 희망하시는 많은 분들의 의견을 반영하여 대면 및 비대면 하이브리드 형식으로 진행하기로 하였습니다.

“반도체 소자기술 및 이를 구현하기 위한 공정기술”에 관한 개괄적 강의를 시작으로 “광리소그래피”, “포토마스크기술”, ”포토레지스트의 원리 및 기술 동향”, ”극자외선 노광기술”로 이어지는 리소그래피 핵심 기술에 대한 일련의 강의를 구성하였고, 최근 새로운 기술적 패러다임을 이끌고 있는 “인공지능”에 관한 기초 강의와 인공지능 기술의 응용분야로 큰 주목을 받고 있는 “머신 러닝을 이용한 계산 리소그래피”에 대한 강의 또한 준비하였습니다. 마지막으로 반도체 리소그래피 및 MI 프로세스에 대한 광학 이론(기하광학, 파동광학, 푸리에광학, 박막광학, 조명광학 등)과 최신 MI 기술에 대해 체계적으로 소개하는 “MI 엔지니어를 위한 광학” 강의가 마련되어 있습니다.

본 단기강좌가 리소그래피 기술에 대한 많은 분들의 지적 갈증을 해소하고 K-반도체의 저변 확대에 기여하여 우리나라가 종합반도체 강국으로 도약하는데 일조할 수 있기를 기대합니다.

분야별 국내외 최고의 전문가이신 연사분들 그리고 열정을 갖고 참여하시는 수강생 여러분들과 함께 리소그래피 관련 교육프로그램의 새로운 전통을 만들어가겠습니다. 반도체 리소그래피 관련 기업인, 연구자, 학생, 그리고 관심있는 일반인 여러분의 적극적인 관심과 참여를 요청드립니다. 감사합니다.